設備用途

本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析而研制的理想設備。

應用領域

半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業領域。

性能參數

設備名稱：1200度管式爐

設備型號：JKR1200-60

爐管材質：石英管

爐管尺寸：外徑60*內徑50*長度1000*壁厚5mm

加熱區尺寸：300

恒溫區尺寸：120

工作溫度：≤1100度(連續)

工作電源：單相220V 50/60Hz 4Kw

加熱元件：電阻絲加熱

升溫速率：推薦10℃/min

測溫元件：K分度號熱電偶

溫控儀表：數顯儀表，30段PID可編程控制。

控溫精度：±1℃

保溫結構：三梯度保溫結構，爐襯+纖維板+纖維棉

保溫耐材：氧化鋁纖維材料，保溫效果好，熱能損耗少。

爐體結構：內膽+外殼雙層鈑金，中間通風有效降低外部溫度。

爐管裝配：爐管橫穿爐膛。

氣密結構及性能

充氣正壓：≤ 0.02MPa

可通氣體：惰性氣體和還原性氣體等。

法蘭(爐管兩端配有不銹鋼密封CF法蘭，包括精密針閥、指針式真空壓力表、軟管接頭，若有需求，可選配以下法蘭)

1、聚四氟乙烯法蘭，用于有腐蝕環境。

2、水冷法蘭，用于防止密封圈老化。

3、KF法蘭，用于真空實驗需求。

性能

斷偶報警、超溫報警、開門斷電(可選)。

可選擴展功能