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氫氣爐使用氫氣作為工作氣體，而真空爐則是在高溫條件下采用真空環境。由于工作氣體的差異，氫氣爐和真空爐在材料處理方面有以下不同：
氫氣爐的作用：氫氣爐主要用于去除材料表面氧化物和其他雜質，同時可改善材料的力學性能和耐腐蝕性能。氫氣爐處理溫度通常在500℃以上。
真空爐的作用：真空爐主要用于高溫下對材料進行熱處理，可以進行高溫燒結、熱處理、熔煉等過程。真空爐通常能夠處理更高的溫度，可達2000℃以上。
使用環境：氫氣爐需要使用高純度的氫氣，而真空爐則需要在真空環境下進行。由于氫氣的易燃易爆性，氫氣爐的使用安保性較真空爐較低，需要進行安保措施。
材料選擇：由于氫氣爐的處理過程需要在氫氣環境下進行，因此只能處理不易與氫氣反應的材料。而真空爐則能夠處理更廣泛的材料，包括易氧化和難處理的材料。
綜上所述，氫氣爐和真空爐在使用環境、材料選擇和處理過程等方面存在差異，適用于不同的熱處理需求。
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